자기 조직화 리소그래피

자기 조직화 리소그래피(Directed Self- Assembly, DSA) 블록 공중 합체의 자기 조립 현상을 이용한 한 방법으로 차세대 것으로 기대된다.

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요약

기술은 지금까지 따라 해마다 집적도가 향상되어 왔지만, 최근 그 한계에 가까워지고 있고 전통적인에서는이 고액 화에 의해 집적도의 향상에 따른 비용을 흡수 할 수 없게되고있다. 따라서 기술에 대한 요구되고 있고, 자기 조직화 리소그래피는 도포 · 소둔 · 현상만으로 패터닝이 가능하기 때문에 차세대 반도체 제조 기술로 기대를 모으고있다. 기술과 숙련 제어에 의해 규칙 구조를 갖는 자발적으로 발현시키는 방법으로 최근에는 이용한도 활발히 연구가 진행되고 있으며, 매우 정밀한 구조 제어가 실현되고있다.

연결된 디 블록 코 폴리머는 동일한 폴리머 성분끼리 분자간 집합하여 미크로 상분리를 일으켜 두 폴리머 성분 사이의 분자 사슬 길이 비 (f)에 따라 집합시 계면 곡률이 변화하는 것 구형 구조, 실린더 구조, 자이 로이드 구조 층상 구조 등 일정한를주고이 규칙 구조가 반도체 미세 패터닝에 적합하다.

장점

• 같은 고가의 장비를 필요로하지 않는다. *보다 단시간에 패턴을 형성 할 수있다.

단점

• 양산 기술로는 공정 제어 등에 문제가있어 실용화에는 이르지 못하고있다.

과제

300mm 웨이퍼의 DSA 패턴은 이미 연구 개발 수준에서 시작되어 있지만, 패턴 형성에 필요한 템플릿의 제작에는이 사용되고 템플릿의 해상도 및 형상 제어에 한계가있다.

용도

• 20nm 이후의 미세 패터닝이 가능한 차세대 반도체 제조 기술로 기대된다.

각주

1. ^ "()". 2016 년 10 월 8 일에 확인. 2. ****키하라 나오코. ""도시바 리뷰 67.4 (2012) : 44-47. 3. ^ 生井 準人 스기타 빛, 日城 요시키 ""JSR 기술 리뷰 119 (2012) : 7-13. 4. ^

참고 문헌

• 백조 세명. ""응용 물리 69.5 (2000) : 553-557.
• 시모무라 政嗣 "분자의 자기 조립 장치를 만드는 것이 있을까? (특집 화학이 개척하는 나노 기술)"화학 57.1 (2002) : 17-20.
• 나카무라 마사카즈, et al. ""표면 과학 24.2 (2003) : 77-82.
• 하야카와 晃鏡 "실 세스 퀴 옥산 함유 블록 공중 합체에 의한 새로운 자기 조직화 리소그래피 재료의 개발."Journal of Network Polymer, Japan 32.5 (2011) : 268-275.
• 세 이노 유리코, et al. ""전기 학회 논문지. A 133.10 (2013) : 532-536.
• 笹尾 典克. ""도시바 리뷰 68.8 (2013).

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Post Date : 2018-01-25 10:30

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